Pinnacle® 系列

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直流

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Pinnacle^® 系列

业界公认的 Pinnacle^® 直流电源平台具有绝佳的工艺一致性和控制功能，从而大大减少了工艺变化，提高了产量。这个紧凑、功能强大的套件提供了业界最低的存储能量、最快的弧反应以及最广的全功率运行阻抗范围。

优势	特点
最低的运行和安装成本业界最快的弧反应时间可配置的弧反应参数最大的工艺效率精确的工艺控制	最低的存储能量——每千瓦输出不到 1mJ 无需调节输出变压器 4:1的阻抗范围靶材处理时间——最大限度地缩短新靶材的处理时间 ±0.1%的输出重复性 Joule 模式——最优化的能量传送

可下载文献

Pinnacle^® 系列直流磁控电源 English
Understanding and Optimizing Static Deposition Processes for TFT Manufacturing (2008) white paper

Reactive Sputter Deposition of Aluminum Oxide Coatings, April 2004 magazine reprint
Reactively Sputtering High on the Transition Curve Using a Few Inexpensive Components, April 2002 magazine reprint
AE Global Services brochure

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