前所未有的单/双极脉冲磁控溅射电源
2013年，AE® 通过采用双极性脉冲直流技术为双极磁控溅射带来了新的技术革新，提供了前所未有的等离子体控制技术。Ascent AP电源在紧凑的单/双极磁控溅射方案中引入了额外的控制参数，使得功率输出更加优化。Ascent AP具有专利的脉冲技术，可以主动抑制电弧，其广泛的工作范围使得该电源可以应用于许多材料，拓展了制程的灵活性以及材料的不断创新。
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优势 |
特点 |
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电介质膜和导电膜的精准溅射
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提供单磁控和双磁控配置
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增加制程控制的灵活性与创新性
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高性能的薄膜质量和产量
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镀膜重复性好，且满足多项定制要求
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更高功率等级，更少电弧损坏
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易于集成与控制
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输出波形可自定义，满足多种功率输出要求
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专利脉冲技术可以抑制消除电弧，保证更高功率输出，提高产能
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紧凑型单机解决方案（最大 30 kW）
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Set point compensation™ 技术确保稳定的功率输出
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应用于各种制程材料的广泛工作范围
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