Xstream® 远程等离子源
高效 Xstream® 远程等离子源平台产生来自稳定的原料气体的中性活性种，用于表面改性、腔室清洗、薄膜蚀刻以及等离子辅助沉积。
安装在工艺腔室外的 Xstream 平台整合了远程等离子源、6 kW 或8 kW 的高效电源以及获得专利的固态主动式匹配网络。该网络在一个腔室清洗源上拥有最宽的商业化阻抗运行范围。Xstream 远程等离子源让工艺工程师拥有无与伦比的反应气体工艺灵活性，从而提高了系统吞吐量，优化了昂贵资源的使用。
| 优点 |
功能 |
- 优化昂贵资源的使用
- 提供最宽的商业化阻抗运行范围
- 可在各种化学反应下无缝运行，包括现有的 PFC/O2 就地腔室清洗方法
- 提高工艺性能、灵活性和吞吐量
- 能够对就地和远程 VCD 腔室清洗进行简化改进
- 利用之前获得专利的 AE 主动式匹配网络技术
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- 固态板上主动式匹配网络
- 完全整合式高效400 kHz 电源
- 可选的虚拟前面板 (VFP) 直观、即时、基于软件的用户界面
- 耗水量小
- 阳极硬化、细微粒、防腐金属源腔室
- 可测量对等离子的实际供电之高级监控电路
- 用于系统整合和监控的读回信号
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AE Xstream 不允许在美国或欧洲销售。
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